三氟化氮（NF3），在微電子工業中是一種優良的等離子蝕刻氣體，隨著納米技術和電子工業的飛速發展，其需求量也在日益增加。高純三氟化氮（NF3）屬于電子特氣，毒性較強，人體直接接觸會有很大的危險，這時，便需要電子特氣柜這樣的特種氣體設備來保證氣體的純度和使用安全。

什么是三氟化氮？

三氟化氮（nitrogen trifluoride）化學式NF?，在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。NF3是低毒性物質，但是它能強烈刺激眼睛、皮膚和呼吸道粘膜，腐蝕組織，研究表明：大鼠吸入1000ppm·l小時未見死亡，但出現高鐵血紅蛋白血癥，當吸入10000ppm·l小時有死亡，在2500ppm時吸毒后4小時死亡。要知道在微電子行業刻蝕工藝中，所使用的NF3是儲存在氣體鋼瓶中的高純度壓縮氣體。

三氟化氮的應用領域：

高純三氟化氮（NF3）具有非常優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化硅和硅），它在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時是非常良好的清洗劑。三氟化氮主要用于化學氣相淀積（CVD）裝置的清洗，同時在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的運用。

三氟化氮可以單獨或與其它氣體組合，用作等離子體工藝的蝕刻氣體，例如，NF3、NF3/Ar、NF3/He用于硅化合物MoSi2的蝕刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用于MoSi2的蝕刻，也用于NbSi2的蝕刻。

電子特氣柜的功能作用：

電子特氣柜是專為易燃易爆、毒性、腐蝕性等危險性氣體供應而設計的特種氣體系統設備，按類別可分為全自動、半自動和手動操作，有包括自動吹掃、自動切換以及緊急情況下的自動安全切斷（當設定報警信號被觸發時）等基本功能。

其中全自動電子特氣柜采用PLC為控制主體，以觸摸屏進行系統顯示和設定，配合合理設計布局的高純閥件及氣體監測泄漏報警系統等，可保持氣體的安全穩定及高純度，保證實驗或生產正常進行。

綜上，三氟化氮（NF3）是微電子行業中一種優良的等離子刻蝕氣體，是一種對人體有很大危險性的電子特氣，電子特氣柜的作用是可以保證三氟化氮（NF3）氣體的運輸安全、使用安全、氣體的純度和提供連續穩定的氣體壓力。感謝您的閱讀！