半導體廢氣處理Local Scrubber的特性

半導體工藝中常使用的化學物質及其副產物,一般依照其化學特性與其不同的影響范圍,

可分為:

1易燃性氣體如SiH4 H2等

2毒性氣體如AsH3,PH3等

3腐蝕性氣體如HF,HCl等

4溫室效應氣體如CF4,NF3等

由于以上四種氣體對環境或人體皆具有一定的危害性,必須防止其直接排放大氣中,所以,一般半導體廠都以加裝大型中央廢氣處理系統.但此系統僅以水洗滌廢氣.故其應用范圍僅限

于處理水溶性氣體,無法因應日新月異且分工細微的半導體工藝廢氣.因此必須依據各工藝所衍生出的氣體特性種類,選擇搭配相對應的廢氣處理設備,才能有效解決廢氣問題.而由于工作區域多半離中央廢氣處理系統前,常因氣體特性導致管路中結晶或粉塵堆積,造成管路堵塞后導致氣體泄漏,嚴重者甚至引起爆炸,無法確保現場工作人員之工作安全.因此在工作區域需配置適合工藝氣體特性的小型廢氣處理設備(Local Scrubber),以減少在工作區域滯留的廢氣,確保人員安全。

深圳沃飛科技有限公司是一家從事氣體應用系統工程的高新技術企業，專業為客戶提供大宗氣體系統、電子特氣系統、實驗室氣路系統、工業集中供氣系統、高純化學品供液系統、Local Scrubber尾氣處理系統等全套工程技術服務和配套產品的一站系統解決方案，公司于2018年榮獲“國家高新技術企業”認定。