在反應室里，氣態反應物經化學反應生成固態物質并沉積在硅片表面的薄膜沉積技術，被稱為CVD（化學氣相沉積）。它有一個基本特征：CVD工藝中反應物必須以氣相形式參與反應，配置特氣柜的好處就體現在這上面。

氣體的傳送就需要用到供氣系統，而這些含薄膜組成原子氣體大多是特種氣體，具有一定的危險性，如SiNx薄膜，常作為集成電路最后的鈍化保護層，提高集成電路的可靠性，所以，需要采用特氣系統，配置特氣柜。

CVD配置特氣柜的好處：

1.  特種氣體在沃飛WOFIY全自動特氣柜(GC)中，使用前會經過多次自動吹掃，避免被氣體雜質污染，保證氣體原材料的純度；

2.  沃飛WOFIY全自動特氣柜（GC）以PLC為控制主體，配合觸摸屏進行系統顯示和設定，可自動切換供氣，保持連續穩定高純度氣體輸送，保證實驗或生產正常進行；

3.  沃飛WOFIY全自動特氣柜（GC）的柜體板材厚度不低于2.5mm，有防腐蝕涂層，在柜門關閉時，氣瓶柜內部是處于負壓狀態，柜內的排風換氣的頻率不低于300次/H，報警偵測警報功能齊全，在緊急情況下會自動安全切斷（當設定報警信號被觸發時），保障生產安全和人員安全。

以上，便是CVD（化學氣相沉積）配置特氣柜的一些好處的簡單介紹，更多氣體應用資訊，請關注沃飛，感謝您的閱讀！