在TFT-LCD制造工藝CVD沉積工序中使用到的工藝特氣：硅烷(S1H4)，氨氣(NH3)，磷烷(PH3)，笑氣(N2O)，NF3等，另外參與工藝過程的還有高純度氫氣和高純度氮氣等大宗氣體。濺射工序中要用到氬氣，濺射成膜氣體是濺射的主要材料。首先要求成膜氣體不能喝靶材發生化學反應，最合適的氣體是惰性氣體。蝕刻工序中也會用到大量的特氣，而電子特氣多是易燃易爆、劇毒的氣體，因此對氣路的要求很高，技術也要求很高。沃飛科技專業從事超高純特氣輸送系統的設計與安裝。

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